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Press Release

脑专用磁共振成像技术将提高神经和精神失常诊断水平

April 07, 2011

小诊所将来也能配备神经系统方面的磁共振成像设备

2011年7月4日,上海------GE全球研发中心和美国知名医疗机构梅奥诊所最近获得美国国立卫生研究院(NIH)五年期570万美元的资助。双方将共同研发一个更加稳定且易于使用的脑专用磁共振成像(MRI)平台,帮助医疗服务机构更好地评估和诊断神经和精神失常,同时比常规的全身磁共振成像系统拥有更高水平的功能性。GE中国研发中心的科学家也将参与到项目中。

GE和梅奥诊所将共同探索如何利用这项创新技术提高医疗诊断水平,尤其在治疗神经和精神失常领域,如中风、阿尔茨海默氏病、帕金森病、脑创伤、抑郁和孤独症,该技术将发挥更大的作用。同时,这项技术还有助于降低成本,帮助更小的诊所也能提供磁共振成像技术和服务。

随着现代磁共振扫描技术的出现,脑科学和脑功能障碍治疗也取得了长足的发展。紧凑型磁共振脑扫描的研发将抵消目前使用的大型机器所需的高功率和冷却要求,这项高价值的技术将会应用于很多领域,造福于全人类。


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Press Release

Nuevo director de cuentas estratégicas en GE Energy Services

April 05, 2011

Santiago de Chile, 5 de abril de 2011.- GE anunció oficialmente hoy el nombramiento de Claudio Toro como nuevo director de cuentas estratégicas de GE Energy Services. Entre sus principales responsabilidades destaca el administrar el completo portafolio de productos de Energy Services para diversas compañías en Chile, de industrias de infraestructura.


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Press Release

GE Saudi Water Reuse Summit to Address Kingdom's Water Challenges

April 04, 2011

Global and regional government and industry leaders explore ways to increase water reuse initiatives while highlighting innovative technologies

RIYADH, Saudi Arabia; April 5, 2011: As Saudi Arabia faces an increasing demand for water to support its rapid population and economic growth, the Ministry of Water and Electricity and GE (NYSE: GE) held the Saudi "Used to Useful" Water Reuse Summit to explore water reuse solutions that can support the Kingdom and the region in securing a sustainable water supply for the future.


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Press Release

GE Deutschland ist auch 2011 Top-Arbeitgeber für Ingenieure

April 04, 2011
Press Release

Ge会長イメルト、日本政府および業界の主要関係者を訪問

April 04, 2011

技術者、タービン、医療機器、義援金など、さらなる支援を表明

東日本大震災により亡くなられた方々のご冥福をお祈り申し上げます。そして、被災されたみなさま、そのご家族に心よりお見舞いを申し上げます。被災地が一日も早く復興することを心からお祈り申し上げます。

この度、GEの会長兼CEOのジェフ・イメルトは、東日本大震災で生じた社会的・経済的影響について、日本の政府関係者、およびお客さま、ビジネスパートナーを含む企業の経営陣から直接意見を聞き、日本の復興に向けた今後の支援について協議するために来日しました。

東京電力を含む複数の企業との会談、および経済産業省の海江田万里大臣との対談において、イメルトは、技術者、タービン、医療機器、義援金などのさらなる支援を表明しました。


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Vishal Wanchoo appointed as Growth Initiatives Leader for GE India

April 04, 2011

New Delhi, April 04, 2011: GE today announced the appointment of Vishal Wanchoo as the Growth Initiatives Leader for GE India. As part of the senior leadership team, Vishal will report to John Flannery, President and CEO, GE India.


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GE appoints Walid Abukhaled as President & CEO

April 01, 2011
Press Release

Ge最新的纳米材料技术提高未来电脑性能

April 01, 2011

* 开发导热性能优于铜的高速电子器件基板

* 新技术潜在优势将惠及笔记本电脑,雷达系统、航空航海电子监控系统等

2011年4月1日,上海------GE 全球研究中心的科学家最近演示了一种先进的导热材料体系,该体系为未来人们提高电脑的速度和运行性能奠定了扎实的基础。利用 GE先进的纳米技术,科学家们开发了一种新型基板。安装了该基板的电子装置(如笔记本电脑)的散热速度达到了以铜为材料的基板的两倍。 自从人类进入电子时代以来,铜因导热性能优越一直是冷却电子器件的首选材料。但是,随着电子设备的不断升级,它们产生的热量也越来越多。过热会限制电子系统的总体性能,影响计算速度和处理能力。因此要实现更先进的系统和应用,我们需要在材料上取得突破。

GE 原型基板开发项目是隶属于美国国防高级研究计划局(DARPA)出资的四年研究计划。作为该计划的领导组织,GE 全球研究中心与 GE 智能平台、空军研究实验室及辛辛那提大学密切合作,共同推进该项目的发展。


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Ge最新的纳米材料技术将提高未来电脑的速度和性能

April 01, 2011

开发导热性能优于铜的高速电子器件基板
新技术潜在优势将惠及笔记本电脑,雷达系统、航空航海电子监控系统等v

2011 年 4月1日, 上海------日前, GE 全球研究中心的科学家演示了一种先进的导热材料体系,该体系为未来人们提高电脑的速度和运行性能奠定了扎实的基础。利用 GE先进的纳米技术,科学家们开发了一种新型基板。安装了该基板的电子装置(如笔记本电脑)的散热速度达到了以铜为材料的基板的两倍。

自从人类进入电子时代以来,铜因导热性能优越一直是冷却电子器件的首选材料。但是,随着电子设备的不断升级,它们产生的热量也越来越多。过热会限制电子系统的总体性能,影响计算速度和处理能力。因此要实现更先进的系统和应用,我们需要在材料上取得突破。


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GE highlights career opportunities and leadership

March 22, 2011

Dubai, UAE; March 23, 2011: GE (NYSE: GE) is highlighting career opportunities for young graduates and professionals in several high-growth sectors such as energy, aviation, healthcare, water and financial services through its participation in Careers UAE 2011.


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