GE imagination at work 日本
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現在、GEは中性子発生装置を手がける企業さまからのご応募をお待ちしております。
以下に記載された仕様に該当する装置をお持ちの企業さま、ぜひ貴社の製品・技術について詳しくご紹介ください。

中性子発生装置：GEが関心を持つ装置の仕様

用途                            非破壊検査
中性子発生率             2.5x109～4.5x109 n/s
中性子エネルギー      ポリエチレンなど一般的で厚くない材料によって容易                                            に熱中性子にする能力を持つもの
遮蔽の軽減                  γ線X線の遮蔽を軽減する能力が高いもの
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